本發明涉及一種真空爐內滲碳零件的控制方法。當碳載體的烴類氣體通入真空爐時，可以用這種方法進行控制。分別在真空和負壓下進行滲碳是眾所周知的。烴類氣體可用作氣體滲碳劑，甲烷是最常用的一種。爐子中的幾種氣體成分是已知的，例如ch '和N:，或CH'+CO，N:和H:。在這些方法中，由于氣體和滲碳鋼所需的碳量之間沒有化學平衡，所以必須采取措施來供應氣體中過量的碳，例如通過供應0H4。這種必需的過量烴氣體供應有一個缺點，即在反應過程中游離碳在到達鋼表面之前就產生了。比如甲烷的反應，CH' = C+ZH:這個游離碳產生了炭黑，隨著濃度的增加，這個炭黑就變成了炭黑云。它有兩個缺點:一是阻礙滲碳；第二，它污染滲碳部件和爐子。另外，電加熱爐有短路的危險。為了減少炭黑，供應到真空爐的烴氣體的量通過固定脈沖或根據量和時間或多或少調節的脈沖來控制。然而，這種方法不能得到有效的結果，并且在形成一定的滲碳層深度和一定的邊界碳含量方面存在一些缺點，即為了獲得與炭黑形成相關的更好的綜合效果，需要通過實驗來確定針對大多數不同滲碳零件的脈沖程序。所以只是在不同的條件下進行大量的實驗。